友威科技成立於2002年，集合一群有多年真空經驗的團隊，積極投入真空濺鍍製程技術及鍍膜系統設計及開發，以PVD、CVD、乾式蝕刻設備 Dry etching技術本位出發，與客戶共同討論開發新應用，共同研究薄膜特性、製程硬體開發、可提供測試樣品、量產系統規畫、自動化設計、並可現有設備改造、功能提升。
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光罩(Mask)/光罩對準曝光系統(Mask Aligner)
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乾式蝕刻(Dry Etching)
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乾式光阻剝除(Dry Stripping)
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光學/X-Ray檢測設備
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烘烤固化設備
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高低溫測試設備與系統
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點膠/塗膠/封膠設備
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